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半導體級高濃度臭氧水發(fā)生器

半導體級高濃度臭氧水發(fā)生器專為半導體行業(yè)應用而開發(fā)設計，采用高濃度、超純凈臭氧生成與混合控制技術，選用高品質、超純耐臭氧材料，實現(xiàn)為半導體行業(yè)應用提供超潔凈、高濃度臭氧水。 

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產(chǎn)品特點

臭氧水輸出穩(wěn)定，臭氧水流量可控、可調，流量范圍可實現(xiàn)0.5-150L/min不同規(guī)格的輸出

應用超純高效混合與控制技術，臭氧水溶濃度實現(xiàn)5-150ppm，內置臭氧水濃度檢測裝置

臭氧濃度輸出響應速度快，輸出臭氧水壓力15-51psi

采用超純發(fā)生技術與超純材料及工藝制造，避免、減少金屬污染及析出

設備具有互鎖、聯(lián)動保護功能，發(fā)生異常及時進行有效警示與保護

設備可與外部進行RS485通訊，實現(xiàn)數(shù)據(jù)傳送以及進行遠程控制

customer service

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  • 專家貼心服務

    我們與國內的臭氧運行及

    應用技術專家長效合作

  • 升級改造服務

    協(xié)同您對臭氧發(fā)生系統(tǒng)中

    相關設備進行升級改造

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